晶体中的缺陷包括（）、（）、（）、（）等四种。

集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。

填空题集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。

制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是（）、（）和（）。

填空题制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是（）、（）和（）。

解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种...

问答题解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种类型？