单项选择题
A.蒸镀 B.溅射 C.离子注入 D.CVD
（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。A.LPCVDB.PECVDC.CVDD.PVD
单项选择题（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
A.LPCVD B.PECVD C.CVD D.PVD
物理气相沉积简称（）。A.LVDB.PEDC.CVDD.PVD
单项选择题物理气相沉积简称（）。
A.LVD B.PED C.CVD D.PVD
薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。A.形成晶核B.晶粒成长C.晶粒凝结D.缝道填补E.沉积膜成长
多项选择题薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。
A.形成晶核 B.晶粒成长 C.晶粒凝结 D.缝道填补 E.沉积膜成长
