如下哪个选项不是半导体器件制备过程中的主要污染物？（）

目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）A.注氧隔离法B.智能剥离法C.键合再减薄技术D.以上都是

单项选择题目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）

硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项？（）A.制备硅烷B.硅烷热分解C.精馏D.固体吸附法

单项选择题硅烷法制备高纯硅的步骤不包括哪一项？（）

多层陶瓷基板多层化的方法包括（）。A.印刷多层法B.生板叠层法C.磁控溅射法D.厚膜多层法

多项选择题多层陶瓷基板多层化的方法包括（）。