单项选择题
A.APCVDB.PECVDC.LPCVDD.HDPCVD
在高温下洁净的硅片表面和氧化剂发生反应生成二氧化硅薄膜的方法是（）A.热氧化B.化学气相沉积C.物理气相沉积D...
单项选择题在高温下洁净的硅片表面和氧化剂发生反应生成二氧化硅薄膜的方法是（）
A.热氧化B.化学气相沉积C.物理气相沉积D.外延
以下属于金属膜的是（）A.多晶硅B.铝膜C.单晶硅D.氧化铝
单项选择题以下属于金属膜的是（）
A.多晶硅B.铝膜C.单晶硅D.氧化铝
硅片倒角时，国际上通用的倒角规格θ有两种，分别是（）°和（）°。A.20、40B.30、40C.40、60D....
单项选择题硅片倒角时，国际上通用的倒角规格θ有两种，分别是（）°和（）°。
A.20、40B.30、40C.40、60D.30、60
