问答题
基本单元：一个硅原子被四个氧原子包围着的Si—O四面体。在SiO2的四面体......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
什么是氧化工艺？请说明氧化工艺为什么需要高温技术？
问答题什么是氧化工艺？请说明氧化工艺为什么需要高温技术？
试说明CMOS工艺在硅片上形成氧化物的主要方法，以及他们间的本质区别。
问答题试说明CMOS工艺在硅片上形成氧化物的主要方法，以及他们间的本质区别。
CMOS工艺中为什么要形成侧墙？在哪一个工艺环节形成及为什么？并说明其形成步骤及主要作用。
问答题CMOS工艺中为什么要形成侧墙？在哪一个工艺环节形成及为什么？并说明其形成步骤及主要作用。
