问答题
步骤：1）淀积二氧化硅2）二氧化硅反刻作用：用来环绕多晶硅栅，作为n+和p+源漏注入......
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什么是阱？CMOS工艺中阱的作用是什么？试说明CMOS双阱工艺中的阱是如何形成的？
问答题什么是阱？CMOS工艺中阱的作用是什么？试说明CMOS双阱工艺中的阱是如何形成的？
试说明NMOS和PMOS的源漏是如何形成的及为什么？
问答题试说明NMOS和PMOS的源漏是如何形成的及为什么？
试说明MOS工艺中存在的自对准结构及他们的主要优点。
问答题试说明MOS工艺中存在的自对准结构及他们的主要优点。
