坚膜烘焙在加热平板上进行，温度控制在（）。

在显影过程中，对于正性抗蚀剂，显影液的使用要求是（）。A.显影液可以使用丁酮B.显影液可以使用甲苯C.显影液可...

单项选择题在显影过程中，对于正性抗蚀剂，显影液的使用要求是（）。

当需要刻蚀的图形尺寸大于3um时，一般使用（）。A.湿法刻蚀B.溅射刻蚀C.等离子体刻蚀D.反应离子刻蚀

单项选择题当需要刻蚀的图形尺寸大于3um时，一般使用（）。

兼具有各向异性刻蚀的优点，又有可接受的选择比的刻蚀方法是（）。A.湿法刻蚀B.溅射刻蚀C.等离子体刻蚀D.反应...

单项选择题兼具有各向异性刻蚀的优点，又有可接受的选择比的刻蚀方法是（）。