问答题
光刻的工艺流程共分7步：（1）涂胶，（2）前烘，（3）曝光，（4）显影，（5）坚膜（6）刻蚀，（7）去胶。分辨率是指线条......
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简要说明IC制造的平坦化工艺的作用是什么？主要有哪些方式？并解释各种方式的详细内容。
问答题简要说明IC制造的平坦化工艺的作用是什么？主要有哪些方式？并解释各种方式的详细内容。
说明APCVDLPCVDPECVD各自的含义及特点。
问答题说明APCVDLPCVDPECVD各自的含义及特点。
与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？
问答题与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？
