问答题
含义：APCVD——常压化学气相沉积法；LPCVD——低压化学气相沉积法......
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与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？
问答题与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？
简述干氧氧化与湿氧氧化各自的特点，通常用哪种工艺制备较厚的二氧化硅层？
问答题简述干氧氧化与湿氧氧化各自的特点，通常用哪种工艺制备较厚的二氧化硅层？
简述沟道效应的含义及其对离子注入可能造成的影响如何避免？
问答题简述沟道效应的含义及其对离子注入可能造成的影响如何避免？
