单项选择题
A.900℃ B.1000℃ C.1100℃ D.1200℃ E.1300℃
记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）A.1／3～1／2B.1／4～1／2C.2／3～3／4D.1...
单项选择题记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的（）
A.1／3～1／2 B.1／4～1／2 C.2／3～3／4 D.1／5～1／3 E.1／2～3／4
模型灌注后适宜的脱模时间为（）A.1～2小时B.2～4小时C.6～8小时D.12小时E.24小时
单项选择题模型灌注后适宜的脱模时间为（）
A.1～2小时 B.2～4小时 C.6～8小时 D.12小时 E.24小时
模型底座厚薄适宜，一般腭顶和口底，的最薄处应保持（）A.3～5mmB.1～2mmC.5～10mmD.10～20...
单项选择题模型底座厚薄适宜，一般腭顶和口底，的最薄处应保持（）
A.3～5mm B.1～2mm C.5～10mm D.10～20mm E.30mm
