光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。

判断题投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。

有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

判断题有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

光刻的本质是把电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。

判断题光刻的本质是把电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。