有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

光刻的本质是把电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。

判断题光刻的本质是把电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。

芯片上的物理尺寸特征被称为关键尺寸，即CD。

判断题芯片上的物理尺寸特征被称为关键尺寸，即CD。

对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。

判断题对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。