集成电路技术综合练习

单项选择题

激光诱导化学汽相淀积的缩略语是（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PEPVD
D.LCVD

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等离子体增强化学汽相淀积的缩略语是（）A.APCVDB.LPCVDC.PEPVDD.LCVD

单项选择题等离子体增强化学汽相淀积的缩略语是（）

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B.LPCVD
C.PEPVD
D.LCVD

常压化学汽相淀积的缩略语是（）A.APCVDB.LPCVDC.PECVDD.LCVD

单项选择题常压化学汽相淀积的缩略语是（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PECVD
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低压化学汽相淀积的缩略语是（）A.APCVDB.LPCVDC.PECVDD.LCVD

单项选择题低压化学汽相淀积的缩略语是（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PECVD
D.LCVD

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