多项选择题
A.湿法刻蚀B.溅射刻蚀C.等离子体刻蚀D.反应离子刻蚀
先进的光刻技术有（）A.EUV曝光B.电子束光刻C.X射线光刻D.纳米压印技术
多项选择题先进的光刻技术有（）
A.EUV曝光B.电子束光刻C.X射线光刻D.纳米压印技术
光刻胶的主要性能指标有（）A.灵敏度B.分辨率C.抗蚀性D.黏附性
多项选择题光刻胶的主要性能指标有（）
A.灵敏度B.分辨率C.抗蚀性D.黏附性
光刻胶的主要成分有（）A.感光剂B.溶剂C.聚合物材料D.胶水
多项选择题光刻胶的主要成分有（）
A.感光剂B.溶剂C.聚合物材料D.胶水
