问答题
试根据5次光刻的工艺流程绘制等效电路。
问答题试根据5次光刻的工艺流程绘制等效电路。
试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
问答题试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
试分析如何减少绝缘膜的针孔及工业上采用的方法。
问答题试分析如何减少绝缘膜的针孔及工业上采用的方法。
