半导体材料的缺陷主要有（）

集成电路用单晶硅的主要制备方法是（）

填空题集成电路用单晶硅的主要制备方法是（）

摩尔定律的主要内容是（）。

填空题摩尔定律的主要内容是（）。

（）和（）是半导体器件的最常用掺杂方法。（）、（）是Si常用的施主杂质；（）是Si常用的受主杂质；（）是GaA...

填空题（）和（）是半导体器件的最常用掺杂方法。（）、（）是Si常用的施主杂质；（）是Si常用的受主杂质；（）是GaAs常用的P型掺杂剂；（）是GaAs常用的N型掺杂剂。