CVD TiN TDMAT的载气是（）。

蒸发台真空度的要求一般（）。A.≤9E-7torrB.≥9E-7torrC.≤9E-5torrD.≥9E-5t...

单项选择题蒸发台真空度的要求一般（）。

溅射中用于轰击靶材的气体是（）。A.ArB.HeC.N2D.O2

单项选择题溅射中用于轰击靶材的气体是（）。

PVD的定义为（）。A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.等离子气相沉积D.平面真空镀膜

单项选择题PVD的定义为（）。