问答题
根据瑞利判据：要提高分辨率，可以通过增大数值孔径NA来实现。传统曝光设备在镜头与硅片之间的介质是空气，空气的折射率是1；......
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什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？
问答题什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？
典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
问答题典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
问答题个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
