论述题 个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。

在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？

问答题在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？

根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？

问答题根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？

在干法刻蚀的终点检测方法中，光学放射频谱分析法最常见，简述其工作原理和优缺点。

问答题在干法刻蚀的终点检测方法中，光学放射频谱分析法最常见，简述其工作原理和优缺点。