曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。

光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。

判断题光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。

步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。

判断题步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。

最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。