问答题
连续喷雾显影、旋覆浸没显影。 显影温度，显影时间，显影液量，硅片洗盘，当量浓度，清洗，排风。
解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？
问答题解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
问答题解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？
问答题给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？
