扩散的低压工艺有多晶、氮化硅和TEOS。

LPCVD多晶的反应气体是二氯二氢硅。

判断题LPCVD多晶的反应气体是二氯二氢硅。

氮化硅去除使用的是磷酸药液。

判断题氮化硅去除使用的是磷酸药液。

驻波效应破坏了光刻胶图形侧壁的垂直性，也导致光刻胶CD测量的不稳定。

判断题驻波效应破坏了光刻胶图形侧壁的垂直性，也导致光刻胶CD测量的不稳定。