判断题
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热扩散掺杂工艺可以一步实现。
判断题热扩散掺杂工艺可以一步实现。
把硅片对离子注入的方向倾斜30度可抑制通道效应。
判断题把硅片对离子注入的方向倾斜30度可抑制通道效应。
使用化学腐蚀法检查针孔时,硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目。
判断题使用化学腐蚀法检查针孔时,硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目。