气体模式下，最大压力值（）；真空模式下，最大压力值（）。

硅材料中杂质一般有（）、（）、（）、（）四种存在形态。

填空题硅材料中杂质一般有（）、（）、（）、（）四种存在形态。

现单晶中氧施主使P型单晶电阻率（）、退火后其电阻率会（）。

填空题现单晶中氧施主使P型单晶电阻率（）、退火后其电阻率会（）。

坩埚涂层的主要成分是（），化学式是（）。

填空题坩埚涂层的主要成分是（），化学式是（）。