问答题
光学放射频谱分析是利用检测等离子体中某种波长的光线强度变化来达到终点检测的目的。光强的变化反映了等离子体中原子或分子浓度......
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采用CF4作为气体源对SiO2进行刻蚀，在进气中分别加入O2或H2对刻蚀速率有什么影响？随着O2或H2进气量的...
采用CF4作为气体源对SiO2进行刻蚀，在进气中分别加入O2或H2对刻蚀速率有什么影响？随着O2或H2进气量的增加，对Si和SiO2刻蚀选择性怎样变化？为什么？
根据原理分类，干法刻蚀分成几种？各有什么特点？
问答题根据原理分类，干法刻蚀分成几种？各有什么特点？
简述BOE（或BHF）刻蚀SiO2的原理。
问答题简述BOE（或BHF）刻蚀SiO2的原理。
