判断题
正确
使用化学腐蚀法检查针孔时,硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目()
判断题使用化学腐蚀法检查针孔时,硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目()
薄膜制备的方式中,CVD不消耗衬底材料。
判断题薄膜制备的方式中,CVD不消耗衬底材料。
溅射常用的等离子体是用氩气离化的。
判断题溅射常用的等离子体是用氩气离化的。