问答题
在源漏电极湿法刻蚀完后，要进行沟道切断。利用源漏电极作掩膜，把沟道上的n+a-Si切断，防止沟道之间的短路。
简述4次光刻的工艺流程。
问答题简述4次光刻的工艺流程。
简述5次光刻的工艺流程。
问答题简述5次光刻的工艺流程。
简述背沟道阻挡结构的优缺点。
问答题简述背沟道阻挡结构的优缺点。
