问答题
检查内容：掩膜版选用是否正确、光刻胶层得质量是否满足要求、图形的质量、套刻精度是否满足要求
影响显影的主要因素？
问答题影响显影的主要因素？
光刻工艺包括哪些工艺？
问答题光刻工艺包括哪些工艺？
何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？
问答题何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？
