LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃，采用增强的等离子体，增加淀积能量，即低压和低温。

与APCVD相比，LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能，因此应用更为广泛。

判断题与APCVD相比，LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能，因此应用更为广泛。

APCVD反应器中的硅片通常是平放在一个平面上。

判断题APCVD反应器中的硅片通常是平放在一个平面上。

外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层，分为同质外延和异质外延两大类。

判断题外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层，分为同质外延和异质外延两大类。