问答题
自然氧化层:如果曝露于室温下的空气或含溶解氧的去离子水中,硅片的表面将被氧化。这一薄氧化层称为自然氧化层。硅片上最初的自......
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对净化间做一般性描述。
问答题对净化间做一般性描述。
例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
问答题例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
问答题描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。