填空题
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在中国、美国和日本受理专利申请的机构分别为()。
填空题在中国、美国和日本受理专利申请的机构分别为()。
关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电...
多项选择题关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。
A.该布图设计必须投入商业实施 B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中 C.布图设计应具有独创性 D.受保护的布图设计必须办理登记手续
《中华人民共和国著作权法》于()年9月7日通过、()年10月27日修订。
填空题《中华人民共和国著作权法》于()年9月7日通过、()年10月27日修订。