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多项选择题

LPCVD系统与PECVD系统相比，它们的相同点有（）。

A.产量低
B.可淀积Si₃N₄等
C.台阶覆盖好
D.反应控制

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相关考题

多项选择题

‎APCVD系统的缺点有（）。‎

A.均匀性差
B.易发生气相反应
C.台阶覆盖
D.高温工艺

多项选择题

下列关于LPCVD的描述正确的有（）。

A.扩散控制
B.严格控制温度
C.反应控制
D.低温淀积工艺

多项选择题

‎影响淀积速率的因素有（）。

A.降低δs
B.增加Um
C.减小基座长度L
D.增加温度

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