问答题
案例分析题室温下，施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触，Al的功函数为4.30eV，Si的电子亲和能为4.05eV。已知，Nc=1019cm-3，k0T=0.026eV，ln1000=6.9。
判断金属-半导体接触形成阻挡层还是反阻挡层。
【参考答案】
形成电子阻挡层。
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