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多项选择题

集成电路的制造工艺，需要采用隔离技术，常见的隔离方法有（）。

A.外延隔离
B.埋层隔离
C.PN结隔离
D.介质隔离

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单项选择题
CMOS工艺中，将PMOS和NMOS的栅进行局部互连的材料是（）。

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B.金属铝
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D.刻蚀
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