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单项选择题

低压化学气相淀积的英文缩写是（）

A.APCVD
B.PECVD
C.LPCVD
D.HDPCVD

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单项选择题
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A.热氧化
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A.多晶硅
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A.20、40
B.30、40
C.40、60
D.30、60
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