填空题
CMOS工艺中，阱注入的计量为（）量级；源、漏注入的剂量为（）量级；开启调整的注入剂量为（）量级 ；场注入的的剂量为（）量级；离子束合成SOI材料SIMOX的O+注入计量为（）量级。
【参考答案】
1012/cm2；1015/cm2；1011/cm2；1013/cm2；1018/cm2
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