单项选择题

PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）

A.照明光学系
B.投影光学系
C.MASK STAGE
D.除震系统

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单项选择题

A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch
B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch
C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch
D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch

单项选择题

PHOTO设备中VCD的作用是（）

A.涂布光刻胶
B.清洗glass基板
C.加热干燥，去除光刻胶里面的solvent
D.真空干燥，去除光刻胶里面的solvent

单项选择题

PHOTO工程最主要的三个Process是（）

A.Clean，Coating，Develop
B.Depo，PHOTO，WET Etch
C.Coating，Exposure，Develop
D.Exposure，Develop，IR Oven