多项选择题

‏提高特征频率的主要技术途径包括（）

A.减小发射结面积
B.减小集电结面积
C.减小基区宽度
D.减小集电区掺杂浓度

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单项选择题

A.输出端C-E之间既不能加负载电阻R_L也不能加直流偏置电压V_CE
B.输出端C-E之间既可以加R_L也可以加V_CE
C.输出端C-E之间不能加R_L但是能加V_CE
D.输出端C-E之间能加R_L但是不能加V_CE

单项选择题

A.α₀↑、β₀↑、I_KF↑、V_A↑
B.α₀↓、β₀↓、I_KF↑、V_A↑
C.α₀↑、β₀↑、I_KF↓、V_A↓
D.α₀↓、β₀↓、I_KF↓、V_A↓

单项选择题

A.发射结存在载流子产生效应
B.发射结存在载流子复合效应
C.基区出现大注入效应
D.发射区出现大注入效应