欢迎来到牛牛题库网 牛牛题库官网
logo
搜索
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

单项选择题

CVD的过程是（）

A.排出-反应-扩散
B.转移-介吸-反应-扩散
C.输送-扩散-吸附-反应-介吸-转移-排出
D.反应-吸附-转移

点击查看答案&解析
上一题 目录 下一题

相关考题

单项选择题
激光诱导化学汽相淀积的缩略语是（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PEPVD
D.LCVD
单项选择题
等离子体增强化学汽相淀积的缩略语是（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PEPVD
D.LCVD
单项选择题
常压化学汽相淀积的缩略语是（）

A.APCVD
B.LPCVD
C.PECVD
D.LCVD
微信小程序免费搜题

All Rights Reserved 版权所有©牛牛题库网(nntiku.com)

备案号：湘ICP备2022003000号-1

微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题