问答题
简答题
光学光刻技术的改进有哪些方面?
【参考答案】
1.减小紫外线光源波长;
2.提高光学光刻工具的数值孔径;
3.化学放大深紫外光刻胶;
4......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
相关考题
