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全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 半导体集成电路

问答题

简答题

解释有限表面源扩散,列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数,并说明其含义和主要影响因素。

【参考答案】

扩散前先在硅片表面淀积一定数量的杂质,然后在整个扩散过程中将这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新源补充,这种扩散方式称为有......

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