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全部科目 > 通信电子计算机技能考试 > 集成电路制造工艺员 > 集成电路制造工艺员（三级）

单项选择题

在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。

A.蒸馏水
B.自来水
C.去离子水
D.矿泉水

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单项选择题
铜互连金属多层布线中，磨料的粒径一般为（）。

A.5~10nm
B.20~30nm
C.50~80nm
D.100~200nm
单项选择题
在酸性浆料中，最常使用的氧化剂为（）。
A.硝酸
B.硝酸铜
C.硫酸
D.磺酸
单项选择题
在新一代的CMP中，有使用（）磨料在金属表面上形成软质皮膜并加以去除的趋势。

A.二氧化锰
B.铝
C.氧化铬
D.金刚石
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