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单项选择题

因为离子注入所引起的简单或复杂的缺陷统称为（）。​

A.晶格损伤
B.晶格缺陷
C.晶胞损伤
D.晶胞缺陷

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单项选择题
根据扩散源的不同，有三种不同扩散工艺，以下不是的是（）。‍

A.固态源扩散
B.液态源扩散
C.替位式扩散
D.气态源扩散
单项选择题
两步工艺分为预淀积（预扩散）、再分布（主扩散）两步，预淀积是惰性气氛下的（）。‍

A.恒定源扩散
B.有限源扩散
C.间隙式扩散
D.替位式扩散
单项选择题
以下不是扩散工艺的重要参数是（）。‎

A.表面浓度
B.杂质类型
C.结深
D.掺入杂质总量
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