欢迎来到牛牛题库网
牛牛题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
通信电子计算机技能考试
>
半导体芯片制造工
>
半导体制造技术
搜题找答案
问答题
简答题
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
【参考答案】
一、将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二、在后续工艺中，保护下面的材料
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
问答题
解释什么是暗场掩模板？
问答题
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
