各向异性的刻蚀剖面是在所有方向上（横向和垂直方向）以相同的刻蚀速率进行刻蚀。

光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

判断题光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。

投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。

判断题投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。

有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

判断题有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。