问答题
氯气、溴气、氯/溴气原因:因为氟基气体的刻蚀是各向同性的并且对光刻胶的选择比一般,为了避免击掉下一层的氧化物......
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描述平板反应器。
问答题描述平板反应器。
二氧化硅,铝,硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀?
问答题二氧化硅,铝,硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀?
列出在干法刻蚀中发生刻蚀反应的六种方法?
问答题列出在干法刻蚀中发生刻蚀反应的六种方法?