填空题
下种；收颈；放肩；等径生长；收尾
高纯硅制备过程为（）→（）→（）→（）→（）。
填空题高纯硅制备过程为（）→（）→（）→（）→（）。
晶体中的缺陷包括（）、（）、（）、（）等四种。
填空题晶体中的缺陷包括（）、（）、（）、（）等四种。
集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。
填空题集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。
