填空题
氧化硅；粗硅；低纯四氯化硅；高纯四氯化硅；高纯硅
晶体中的缺陷包括（）、（）、（）、（）等四种。
填空题晶体中的缺陷包括（）、（）、（）、（）等四种。
集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。
填空题集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括（）、（）、（）。
制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是（）、（）和（）。
填空题制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是（）、（）和（）。
