在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是质量转移控制

离子注入与热扩散相比，哪个横向效应小（）A. 离子注入B. 热扩散

单项选择题离子注入与热扩散相比，哪个横向效应小（）

二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的...

单项选择题

二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）     
①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数 
②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数 
③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度 
④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度

在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）A.干氧B.湿氧...

单项选择题在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）