二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）     
①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数 
②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数 
③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度 
④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度

在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）A.干氧B.湿氧...

单项选择题在温度相同的情况下，制备相同厚度的氧化层，分别用干氧，湿氧和水汽氧化，哪个需要的时间最长？（）

欧姆接触

名词解释欧姆接触

简述电子束曝光的特点

问答题简述电子束曝光的特点